Douglas Waychi Miwa (PG),Mauro Coelho dos Santos (PG),
Sérgio Antonio Spinola Machado (PQ), Luis Alberto Avaca (PQ)
GMEME Departamento de Físico-Química Instituto de Química de São Carlos
Universidade de São Paulo, Cx. P. 780, 13560-970 São Carlos, SP
e-mail: miwa@iqsc.sc.usp.br
A deposição em regime de subtensão (DRS) de ions metálicos sobre eletrodos de metais nobres tem sido tema de vários estudos, principalmente utilizando a voltametria cíclica, que é uma ferramenta simples e poderosa para a investigação da camada de ad-átomo formada. Entretanto, ela falha na detecção de intermediários não eletroativos, como por exemplo, na adsorção de ânions no curso da deposição/redissolução dos ad-átomos envolvidos. Para isto, diferentes técnicas auxiliares têm sido empregada, entre elas a microbalança eletroquímica de cristal de quartzo (MECQ), que possibilita a medida da variação total de massa durante a deposição ou redissolução da monocamada em estudo.
O objetivo principal deste trabalho é estudar a DRS de Cu sobre Pt em solução dos ácidos perclórico, sulfúrico, fosfórico e clorídrico, com as técnicas de voltametria cíclica e microbalança eletroquímica de cristal de quartzo. Esta proposta visa estabelecer de maneira precisa as densidades de carga e massas de dissolução de cobre, bem como estudar a influência dos ânions sobre estes valores.
Os experimentos foram realizados a partir de soluções de CuO 5x10-5 M+ (HClO4, H2SO4, HCl ou H3PO4 ) 0,1 M. O eletrodo de trabalho de Pt foi montado sobre um cristal de quartzo clivado na direção AT, com freqüência de ressonância de 9 MHz, sendo a área geométrica de 0,2 cm2 e a área eletroativa de 0,35 cm2, medida pela carga voltamétrica da região de dessorção de hidrogênio. O coeficiente de sensibilidade experimental da microbalança foi calculado com a eletrodeposição de Ag e Cu como sendo, 830 Hz mg-1. Como eletrodo de referência e auxiliar foram utilizados, respectivamente, eletrodo reversível de hidrogênio e uma placa de Pt de 1 cm2. As medidas foram realizadas em um potenciostato EG&G PARC mod. 273 A conectado a um PC 486 e um Analisador de Cristal de Quartzo da Seiko EG&G PARC.
Na Figura abaixo são apresentados os voltamogramas da DRS de Cu sobre Pt nos quatro eletrólitos. As condições para a obtenção de uma monocamada completa de cobre em meio de HClO4 0,1 M foram otimizadas, sendo a deposição feita em 0,3 V por 600 s. A redissolução desta monocamada foi feita por uma varredura anódica até 1,55 V. Finalmente retornou-se ao potencial inicial. Estas condições geraram quantidades de cobre depositado ligeiramente maiores nos outros eletrólitos, porém sempre abaixo de 1,2 monocamadas. De acordo com o eletrólito utilizado, a dissolução destas monocamadas pode ocorrer com a presença de dois ou três picos na região de potenciais entre 0,3 e 0,9V.
As densidades de carga e de massa de dissolução do cobre obtidas experimentalmente estão apresentadas na Tabela, juntamente com as massas calculadas, a partir das cargas voltamétricas, para cada caso.
Eletrólito |
mCuexp (ng cm-2) |
mCucalc (ng cm-2) |
qCu (mC cm-2) |
qânions |
HClO4 0,1 M |
198 |
139 |
425 |
0,27 |
H2SO4 0,1 M |
213 |
143 |
436 |
0,33 |
H3PO4 0,1 M |
226 |
161 |
490 |
0,31 |
HCl 0,1 M |
237 |
178 |
543 |
0,77 |
Tabela: Cargas, massas de dissolução, calculadas e recobrimento com ânions para a DRS de Cu sobre Pt em cada eletrólito indicado na legenda.
A diferença entre a massa total experimental da camada de Cu dessorvida e a calculada fornece a massa de ânions adsorvidos sobre o Cu e que foi removido simultaneamente. A massa total dos ânions pode ser convertida em recobrimento dividindo-a por aquela equivalente a uma monocamada de ânions (obtida das fórmulas moleculares e do número de sítios da superfície). Os valores de recobrimento encontrados também são apresentados na Tabela.
Pode-se observar que os valores de recobrimento aumentam na ordem ClO4- < HSO4- < H2PO4- < Cl-, revelando a força de interação crescente destes ânions com a superfície de Cu.
CNPq, FAPESP (97/02723-5 e 98/15700-6)